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    首页»供应»半导体 » 半导体制造设备 » 光刻机»PhableR 100 紫外光刻机
  • PhableR 100 紫外光刻机

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  • 起订量:0
  • 可售数量:0
  • 发布时间:2018-07-24产品供应时间:长期有效
  • 所在地:北京

    企业类型:企业单位

    公司地址:北京市海淀区学院路30号 科大天工大厦B座1408室

    联系人:李先生 ( )
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  • [免费会员2年] 信用度:0级
  • 会员级别:普通会员 第2年 信用度:0级
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  • 身份认证: 通过认证 [诚信档案]
  • 联系人:李先生(先生) 
  • 已缴纳 0.00 元保证金
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  • 会员状态:[当前离线] [加为商友] [发送信件]
  • 注册资金:200万人民币
  • 企业规模:1-49人
  • 企业类型:企业单位
  • 经营范围:紫外光刻机,光学材料,单晶,溅射靶材
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  • 产品评价
  • 品牌:Eulitha
  • 所属分类:半导体 » 半导体制造设备 » 光刻机
  • 计量单位:
  • 最小起订量:0
  • 供货总量(库存):0
  • 发货期限:自买家付款之日起180天内发货
  • PhableR 100 紫外光刻机是一套低成本的光学曝光系统,但却能获得高分辨率的周期性结构。同传统的紫外曝光机类似,涂覆了光刻胶的晶片以接近方式放置在掩膜版下面,被紫外光束照射。由于Eulitha公司拥有突破性的PHABLE 曝光技术,在"PHABLE"模式下,分辨率不再受到衍射的限制,从而曝光出亚微米的线性光栅和二维光栅(六角形和正方形),且曝光结果非常均匀,质量很 好;在"mask aligner"模式下,能非常轻松地获得微米尺寸的图形。


    特点:


  • 高效的大面积亚微米-纳米图形化设备
  • 操作简单、工作稳定,兼容科研及批量生产
  • 纳米周期性图案解决方案

  • 优势


  • 大面积图形化设备:适用4、6、8寸衬底
  • 高曝光效率:非步进式曝光,无拼接,单次全场曝光实现整片图形化
  • 高精度:光学衍射自成像原理,突破传统曝光精度极限
  • 非接触式曝光
  • 设备没有景深限制,曝光过程无需对焦
  • 双工作模式(UV375机型):高分辨模式(周期性纳米-微米结构),一般紫外光刻模式(非周期结构)
  • 设备采用通用的商业光刻胶,根据客户的图形,提供工艺技术支持。
  • 关键词:PhableR 100 紫外光刻机,供应,半导体,半导体制造设备,光刻机

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